低温等离子体的电离率较低，电子温度远高于离子温度，离子温度甚至可与室温相当。所以低温等离子体是非热平衡等离子体。低温等离子体中存在着大量的、种类繁多的活性粒子，比通常的化学反应所产生的活性粒子种类更多、活性更强，更易于和所接触的材料表面发生反应，因此它们被用来对材料表面进行改性处理。

　　低温应用：

　　等离子清洗 – 等离子刻蚀 – 等离子去胶 – 等离子活化

　　金属表面去油及清洗金属表面常常会有油脂、油污等有机物及氧化层，在进行溅射、油漆、粘合、键合、焊接、铜焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等离子处理来得到完全洁净和无氧化层的表面。

　　等离子处理作用原理：

　　灰化表面有机层－表面会受到物理轰击和化学处理

　　－在真空和瞬时高温状态下，污染物部分蒸发

　　－污染物在高能量离子的冲击下被击碎并被真空泵抽出

　－紫外辐射破坏污染物 因为等离子处理每秒只能穿透几个纳米的厚度，所以污染层不能太厚，指纹也适用。

　　氧化物去除

　　金属氧化物会与处理气体发生化学反应

　　这种处理要采用氢气或者氢气与氩气的混合气体。有时也采用两步处理工艺。第一步先用氧气氧化表面，第二步用氢气和氩气的混合气体去除氧化层。也可以同时用几种气体进行处理。（深圳市pg电子平台技术有限公司）