*清洁半导体元件和印刷电路板。*清洗生物芯片和微流控芯片。*清洁沉积凝胶的基底。*高分子材料的表面改性。*牙科材料、人工移植物和医疗器械的消毒和灭菌。改善用于粘接光学元件、光纤、生物医学材料、航空航天材料等的胶水的粘接性。等离子清洗机产品特点；*小型台式设备，半导体plasma清洗无射频辐射，符合CE安全标准。*动力可在低、中、高三档调节。*有三种型号可供选择，GD-5；GD-30；GD-125。

表面反应主要是物理作用，半导体plasma清洗机器等离子体清洗常用氩气，无氧化副产物，蚀刻各向异性。一般情况下，等离子体表面改性过程中化学反应和物理作用并存，以获得更好的选择性、均匀性和方向性。由于工业领域向精密化、小型化方向发展，等离子体表面改性技术凭借其精细清洁、无损改性等优势，将在半导体工业、芯片工业、航空航天等高新技术产业中具有越来越重要的应用价值。

常压等离子体表面处理器优势及应用：改变材料微观结构，半导体plasma清洗变疏水性为亲水性，增强表面润湿性，形成活化表面，增强表面附着力，提高表面可靠性和耐久性。由于大气等离子体是无电位的，等离子体处理可以结合在导电、半导体和非导电应用中。1.改变材料的微观结构，变疏水为亲水；2.增强表面润湿功能，使其成为活化表面；3.提高表面粘附能力，提高表面可靠性和耐久性；4.用接触角测试仪可以定量测定处理的效果。

由于疫情影响，半导体plasma清洗机器2020年订单减少，因此不少半导体企业制定了2020年秋季至冬季减产计划。在此背景下，需求的快速恢复短期内会造成部分产品供不应求。半导体行业分析师林子恒4日接受《环球时报》记者采访时表示，随着行业开始扩大产能弥补缺口，全球半导体短缺状况有望在2021年得到缓解。中国半导体产业在2020年实现增长，2021年有望进一步发展，在芯片设计和制造方面取得新突破。

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这样，施加在硅层上的电场就可以通过氧化层影响硅层，这就是MOS这个名字的由来。由于最初的MOS器件速度慢，未能解决电话设备面临的问题，这项研究破裂了。然而，飞兆半导体公司和美国无线电(RCA)公司的研究人员意识到了MOS器件的优势。20世纪60年代，卡尔·尼宁格和查尔斯·默勒在美国无线电公司制造金属氧化物半导体晶体管。C.T。

6.超净条件下样品的无损处理。四、低温等离子体发生器产品表面处理应用领域：1.超净光学元件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基板、终端安装等。2.清洗各种镜片，如光学镜片、电子显微镜等。3.去除光学元件、半导体元件等表面的光刻胶材料，去除金属材料表面的氧化物。4.清洁半导体元件、印刷电路板、ATR元件、人工晶体、天然晶体、宝石。5.清洗生物芯片、微流控芯片和底物沉积凝胶。

如果您对等离子表面清洗设备有更多的问题，欢迎向我们提问（广东金莱科技有限公司）

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